實(shí)驗室真空等離子清洗機：科研創(chuàng )新的"表面工程師" 在科研領(lǐng)域，材料表面處理常面臨納米級污染物難清除、化學(xué)試劑殘留等挑戰。而實(shí)驗室真空等離子清洗機憑借其獨特技術(shù)優(yōu)勢，正成為科研創(chuàng )新的"表面工程師"，助力突破材料研究瓶頸。 該設備通過(guò)高頻電場(chǎng)將氧氣、氬氣等氣體電離，形成高能量等離子體。這些等離子體中的活性粒子與材料表面發(fā)生雙重作用：物理轟擊剝離納米級污染物（刻蝕速率>100nm/min），化學(xué)反應引入含氧官能團（XPS檢測C-O鍵增加40%）。清洗過(guò)程在真空腔體內完成，確保無(wú)污染、無(wú)殘留，表面能達到72mN/m，接觸角降至