高精鍍膜設備系列采用獨有的純離子鍍膜源專(zhuān)利技術(shù)，設備腔體結構由裝載腔室+真空鍍膜工藝腔室組合而成。鍍膜工藝系統由純離子鍍膜[PIC)+離子束潔洗(0NBEAM)融合而成。配有高效的電磁掃描系統和過(guò)減系統，可以過(guò)濾掉大顆粒離子團和原子團，制備的納米薄膜非常致密和光滑，與工件的結合力很強，在均勻性、硬度、摩擦系數、耐沖擊、耐腐蝕性能方面具有獨特優(yōu)勢?？梢灾苽涑龉鈱W(xué)級Ta-C碳基薄膜，膜層中的正四面體結構(金剛石SP3鍵)可以達到75%以上，其物理化學(xué)性質(zhì)和金剛石極其類(lèi)似，具有極高的硬度(75GPa),極低的座擦系數(0.1),耐高溫(在氮氣保護環(huán)境下可以達到600C以上)等一系列優(yōu)異特征。使用壽命比傳統的DLC膜層延長(cháng)幾倍至幾十倍不等,適合光學(xué)鏡頭模具,及精密高端產(chǎn)品的鍍膜。

主要應用

> 精密光學(xué) : 光學(xué)模壓模具;

>高精機械加工: 精密機械零部件；

> 科研單位( 研究所大學(xué)實(shí)驗室 )；

> 溫度敏感的基材等。

產(chǎn)品特點(diǎn)

> 低溫鍍膜、高效過(guò)濾；

> 專(zhuān)利技術(shù)、工藝成熟；

>膜層性能優(yōu)越: 硬度高、摩擦系數低；

>高精密膜層可大批量高效率生產(chǎn)等。